我们的碳化钨 (WC) 坩埚专为最苛刻的热和机械环境而设计。与标准石墨或陶瓷坩埚不同，WC 坩埚具有无与伦比的硬度 90-92HRA 和密度 14.5-15.0 g/cm3。这些专为必须最大限度地减少污染且容器必须承受剧烈磨蚀力或高真空感应加热的应用而设计。
| 财产 | 价值/规格 |
| 材料成分 | 90-94% WC + 6-10% Co（钴粘合剂） |
| 密度 | 14.5-15.0g/cm |
| 硬度 | 90-92HRA |
| 熔点 | 2870WC底座 |
| 横向断裂强度 | 2600MPa |
| 表面粗糙度 | 标准尺寸与定制尺寸 |
壁厚（针对特定的热梯度）。
集成盖子和倾倒口。
用于行星式球磨机集成的螺纹底座。
直径（毫米）
| 厚度（毫米） | 高度(毫米) | 表面光洁度 | 内表面光洁度 | 内底完成 | 应用领域 |
| 30-50 | 2-10 | ≤200 | ≤Ra2.0 | ≤Ra2.4 | ≤Ra2.8 |
| 50-100 | 3-15 | ≤300 | ≤Ra2.0 | ≤Ra2.4 | ≤Ra2.8 |
| 100-150 | 3-15 | ≤350 | ≤Ra2.0 | ≤Ra2.4 | ≤Ra2.8 |
| 150-200 | 5-20 | ≤400 | ≤Ra2.0 | ≤Ra2.4 | ≤Ra2.8 |
| 200-300 | 8-25 | ≤500 | ≤Ra2.0 | ≤Ra2.4 | ≤Ra2.8 |
| 300-400 | 8-30 | ≤600 | ≤Ra2.0 | ≤Ra2.4 | ≤Ra2.8 |
| 400-450 | 8-30 | ≤650 | ≤Ra2.0 | ≤Ra2.4 | ≤Ra2.8 |
| 450-600 | 8-35 | ≤800 | ≤Ra2.0 | ≤Ra2.4 | ≤Ra2.8 |
实验室分析：用作研磨罐或容器，用于制备高纯度地质或陶瓷样品。
晶体生长：用于在高压/高温下生长合成晶体的专用容器。
薄膜沉积：真空镀膜工艺的蒸发源。
为什么选择我们：
1.您可以根据您的要求以尽可能低的价格获得完美的材料。
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